陶瓷坩埚
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陶瓷坩埚
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中壁坩埚
产品概述:中壁陶瓷坩埚是瓷坩埚的一种,在实验室和工业领域有广泛应用,主要成分是氧化铝(45%-55%)和二氧化硅。中壁陶瓷坩埚的壁高处于高壁坩埚和低壁坩埚之间,这种设计在实际使用中具有一定的优势。它的高度适中,既能够提供相对较大的容积来容纳样品,又不会像高壁坩埚那样因壁过高而导致样品在加热过程中受热不均匀,同时也避免了低壁坩埚因壁低而容易造成样品飞溅或挥发损失的问题。其底部通常为圆形,有利于均匀受热。中壁陶瓷坩埚有多种规格可供选择,常见的容量有 15mL、30mL、50mL、100mL 等,用户可以根据实验或生产的具体需求选择合适的规格。

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产品特点

(1)结构设计合理:壁高适中,兼顾了较大的容积和良好的受热均匀性,减少了样品飞溅和挥发损失的风险,同时圆形底部有利于热量均匀分布。

(2)耐高温性能好:能承受 1200℃左右的高温,部分不带釉产品可耐 1350℃,可满足多种高温实验和生产工艺的要求。

(3)化学稳定性强:对多数化学物质有良好的耐腐蚀性,适用于多种酸性物质熔融样品,但不能用于碱性物质作熔剂熔融以及与氢氟酸接触。

(4)热导率低:可有效减少热量散失,提高加热效率,既节省能源又能保护操作人员免受高温烫伤。

(5)绝缘性能优良:良好的绝缘性能可避免加热过程中出现漏电现象,保障实验安全。

此外,中壁坩埚还有操作便利性高,清洗维护简便,通用性强的优点。

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产品尺寸表

编号容量(ml)上径(mm)底径(mm)高(mm)
C-1752516>21
C-18103020>28
C-18-1153521>30
C-20203822>32
C-21>25>40>23>36>
C-22>30>42>24>41>
C-23>40>48>26>42>
C-24>50>53>30>46>
C-24-1>70>58>32>59>
C-25>100>63>34>57>
C-26>150>77>39>63>
C-27>200>82>41>70>
C-28>300>90>43>78>

产品应用

(1)化学分析:用于样品的灰化、熔融等预处理过程,以便进行后续的化学分析,如元素含量测定、成分分析等。

(2)材料制备:在材料科学领域,常用于制备高温陶瓷材料、金属氧化物等,通过高温烧结工艺获得所需的材料性能。

(3)冶金行业:可用于金属的熔炼、精炼等过程,为冶金研究和生产提供重要的实验手段。

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